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首頁(yè) > 新聞資訊 > 行業(yè)資訊鍍鉻棒中的鍍鉻液按使用習(xí)慣分類(lèi)
| 發(fā)布者：鍍鉻棒｜：哥林柱｜：廣東日鋼 發(fā)布時(shí)間：2014.06.11 |
鍍鉻棒中的鍍鉻液按使用習(xí)慣可以分為以下幾種分類(lèi)：
1、普通鍍鉻液：以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便，是目前應(yīng)用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。習(xí)慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱(chēng)為"標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液"，又稱(chēng)為"萬(wàn)能鍍鉻液"，用于裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。
2、鍍鉻棒中復(fù)合鍍鉻液：以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達(dá)到20%以上。然而，氟硅酸對(duì)陽(yáng)極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強(qiáng)的腐蝕作用，必須采取一定的防護(hù)措施，其襯里和陽(yáng)極最好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
3、自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻液：以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡，并分別有一溶度積常數(shù)Ksp，即當(dāng)溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度增大時(shí)，相應(yīng)的離子濃度乘積將大于溶度積常數(shù)，過(guò)量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉淀而析出；相反，當(dāng)溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時(shí)，槽內(nèi)的SrS04或K2SiF6沉淀溶解，直至相應(yīng)的離子濃度乘積等于其溶度積時(shí)為止。所以，當(dāng)鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時(shí)，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過(guò)溶解沉淀平衡而自動(dòng)的調(diào)節(jié)，并不隨電鍍過(guò)程的持續(xù)而變化。這類(lèi)鍍液具有電流效率高（270A），允許電流密度范圍大（高達(dá)80～100A/dm2），鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快（50/-m/h)等優(yōu)點(diǎn)，故又稱(chēng)"高速自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻"。但鍍液的腐蝕性強(qiáng)。
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1、普通鍍鉻液：以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便，是目前應(yīng)用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）鍍鉻液。習(xí)慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱(chēng)為"標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液"，又稱(chēng)為"萬(wàn)能鍍鉻液"，用于裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。
2、鍍鉻棒中復(fù)合鍍鉻液：以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達(dá)到20%以上。然而，氟硅酸對(duì)陽(yáng)極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強(qiáng)的腐蝕作用，必須采取一定的防護(hù)措施，其襯里和陽(yáng)極最好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
3、自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻液：以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡，并分別有一溶度積常數(shù)Ksp，即當(dāng)溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度增大時(shí)，相應(yīng)的離子濃度乘積將大于溶度積常數(shù)，過(guò)量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉淀而析出；相反，當(dāng)溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時(shí)，槽內(nèi)的SrS04或K2SiF6沉淀溶解，直至相應(yīng)的離子濃度乘積等于其溶度積時(shí)為止。所以，當(dāng)鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時(shí)，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過(guò)溶解沉淀平衡而自動(dòng)的調(diào)節(jié)，并不隨電鍍過(guò)程的持續(xù)而變化。這類(lèi)鍍液具有電流效率高（270A），允許電流密度范圍大（高達(dá)80～100A/dm2），鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快（50/-m/h)等優(yōu)點(diǎn)，故又稱(chēng)"高速自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻"。但鍍液的腐蝕性強(qiáng)。
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